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抛光蠟的质量及浓度值对抛光产品的影响

作者:华铭抛光  来源:温州华铭抛光研磨材料有限公司  更新时间:2018-05-21 10:28:28  点击次数:

很多产品在出厂前都要经过打磨抛光,以显示产品表面的平、滑、亮、光的效果,提高产品的投放价值。所以,抛光蠟作为现在加工行业最广泛应用的材料之一。


使用抛光蠟的工具:海绵盘、纳米毛巾、抛光机 抛光轮等。

材料:抛光蠟(粗、中、细)

抛光作用:解決漆面氧化層、條紋、汙染、褪色等影響漆面外觀的深層問題。

抛光原則:由重到輕,重力研磨,輕力提光。

抛光蠟的抛光三环节:研磨、抛光、还原。通过表面预处理清除漆面上的污物,消除严重氧化及微划痕或减轻表面缺陷,使漆面上无氧化层、条纹、污染、褪色等缺陷。


抛光蠟的浓度值直接关系到抛光机上工件的加工效果,具体来说是影响工件粗糙度的值。抛光蠟的浓度不宜过浓或过稀,它们之间有一个最佳浓度值,只有在这个最佳的范围内才能保证工件表面粗糙度的良好性。抛光蠟过浓的话会导致研磨时,工件表面的磨削力变大,会导致表面有划痕,不光滑,同时粗糙度变大。当抛光蠟过稀时,工件表面磨削力太小,去除表面很慢也起不到去除斑点、划痕的效果,粗糙度也人变大。因此只有抛光蠟浓度适当时这些问题才能彻底解决。


假设抛光轮转速为6000 r/min,抛光蠟流量为0.6L/min。随着CeO2浓度的增大,氮化硅陶瓷加工表面Ra值变小,当抛光蠟浓度超过最佳浓度值后,Ra值增大。其原因是: 抛光蠟浓度较低时,抛光蠟中CeO2微粒不足,即没有足够的CeO2微粒参与化学反应,从而使氮化硅材料的去除率较低,表面粗糙度差;当抛光蠟浓度增大时,化学机械抛光过程中参与化学反应的原料供应增加,加大了有效机械研磨作用,使局部温度升高,化学反应加速,并且生成的软质层被有效去除,从而实现了较高的去除率和加工表面质量; 抛光蠟的浓度进一步增大时,化学作用得到进一步的增强,但是机械作用相对不足,导致表面粗糙度值增大。


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